OES ve C/S Analizi için Numune Hazırlama
OES (optik emisyon spektrometri) ve C/S (karbon-kükürt) analizlerinde sonuç doğrudan numune yüzeyi kalitesine bağlıdır. Metalik numunenin punch, press ve yüzey işlemlerini standart, tekrarlanabilir biçimde gerçekleştiren Multi EQP-100, analiz hatalarını yüzey hazırlığı kaynaklı olmaktan çıkarır.
Neden Kritik
OES cihazı numuneden ışın aldığında, analiz penceresinin tamamında homojen ve temiz bir metalik yüzey olmasını bekler. Yanlış punch veya düzensiz yüzey; sahte oksit pikleri, düşük tekrarlanabilirlik ve hatalı kalibrasyon anlamına gelir.
Cihaz
OES ve C/S numune hazırlama için tek istasyonlu çözüm. 50 ton hidrolik basınç ile punch, press, ezme ve kesme işlemlerini tek kontrol ünitesinden yönetir.
Multi EQP-100, tek bir kontrol ünitesiyle metalik numuneleri punch, press, ezme ve kesme işlemlerinden geçiren otomatik hidrolik pres sistemidir. 50 ton basınca kadar çalışır.
OES cihazına sunulan numunenin geometrisi ve yüzey kalitesi, analiz tekrarlanabilirliğini doğrudan etkiler. Multi EQP-100 bu adımı standartlaştırarak operatör kaynaklı değişkenliği ortadan kaldırır.
C/S analizlerinde de numune kütlesi ve boyut kritiktir. Kesme istasyonu, cihaza uygun boyut ve kütlede numune hazırlamayı güvenilir hale getirir.
Uygulama Alanları
Demo ve Danışmanlık
Multi EQP-100 hakkında teknik bilgi, fiyat teklifi veya demo için uzman ekibimizle iletişime geçin.
